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电解抛光线的工艺原理与核心机制
发布日期:2025-05-27 浏览量:23

       江苏华飞合金材料科技有限公司电解抛光线是一种利用电解原理对金属表面进行精细抛光的工艺线材,广泛应用于高 端制造、电子、医 疗等领域。以下从工艺原理、材料特性、应用场景及技术优势等方面展开说明:

工艺原理与核心机制

1. 电解抛光的基本原理

电化学溶解:将金属线(工件)作为阳极,浸入电解液中,接通直流电源后,阳极金属发生氧化反应,表面原子以离子形式溶解进入电解液。

整平效应:金属表面凸起部位因电流密度更高,溶解速度快于凹陷部位,终使表面趋于平滑,达到抛光效果。

钝化膜作用:电解液中的氧化剂(如硫酸、磷酸)会在金属表面形成一层薄钝化膜,凸起处膜层因机械应力或溶解速度快而被破坏,持续溶解,凹陷处膜层稳定,从而实现选择性抛光。

2. 电解抛光线的特殊设计

线材直径:通常为 0.01-2mm,适用于超细金属线(如钨丝、镍钛丝)或复杂结构件的表面处理。

电解液配方:根据金属材质调整,例如:

不锈钢线:常用磷酸 + 硫酸 + 铬酸体系,抛光温度 50-80℃。

铜线:采用硫酸 + 硫酸铜体系,添加有 机胺类添加剂改 善光泽。